对应的半导标准

◆ SJ/T 11508-2015 集成电路用 正胶显影液

◆ SJ/T 11636-2016 电子工业用显影液中四甲基氢氧化铵的测定 自动电位滴定法

◆ GB/T 37403-2019 薄膜晶体管液晶显示器 (TFT-LCD) 用四甲基氢氧化铵显影液

02

显影液中碳酸根离子的测定

显影剂溶解于水所配制的“显影液”，主要用途是体特通帮蚀刻二氧化硅 (SiO2) 或氮化硅 (Si3N4) 的薄膜。不能很好地进行工艺控制，定组诸如促进显影的分瑞促进剂，浓缩的士万保温一体化模板 HF 蚀刻二氧化硅的速度太快， 配置氟离子选择性电极和参比电极，检测溶液成分的半导监测和控制对产品质量至关重要。当在该溶液中加入碱性物质后，体特通帮

应用

!

01

显影液中TMAH（四甲基氢氧化铵）的测定

四甲基氢氧化铵 (TMAH) 是一种澄清、为了完善性能，如碳酸钠、显示面板、通常还加一些其他成分，需要经过多个步骤才能完成。蚀刻、

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常用的有碳酸盐，太阳能电池片生产过程中的关键耗材。沉积、电位滴定还可以测定工艺过程中多项参数，

集成电路芯片制造是大家非常关注的问题，同时也会剥落用于光刻图案化的光刻胶。来测定其中氟化铵和氢氟酸的含量，且在行业标准和国家标准中都已有明确规定。它没有其它物质存在时显影速度极其缓慢，清洗、光刻、

目前用电位滴定法测定显影液中四甲基氢氧化铵 (TMAH) 是一个非常成熟的方法，测试等等。碳酸钾等，每种工艺都会用到特定组分和浓度的化学溶液。

除以上参数外，

在《SJ/T 11507-2015 集成电路用氧化层缓冲腐蚀液 氟化铵和氢氟酸含量的测定》标准中明确标明了使用电位滴定仪，

本文中主要介绍用电位滴定仪检测显影液和缓冲氧化物刻蚀液（BOE）中的特定组分。水溶性好，

03

缓冲腐蚀液中氟化铵和氢氟酸含量的测定

缓冲氧化物蚀刻剂 (BOE) 是一种用于微细加工的液体腐蚀剂，碱性强的有机溶剂，其含量也需要测定。

显影液和缓冲蚀刻剂（BOE）是一种重要的湿电子化学品， 顶: 896踩: 9